
龙玺精密作为国内领先的二手半导体设备供应商,今日为您推荐半导体光刻领域的卓越设备——NIKONNSRS204B分步投影光刻机。尼康在光刻设备领域凭借数十年的技术积累,打造出众多性能顶尖的产品,NSRS......
龙玺精密作为国内领先的二手半导体设备供应商,今日为您推荐半导体光刻领域的卓越设备——NIKONNSRS204B分步投影光刻机。尼康在光刻设备领域凭借数十年的技术积累,打造出众多性能顶尖的产品,NSRS204B更是以高精度和高稳定性,成为中高端半导体制造的得力助手。
技术特性上,NIKONNSRS204B采用先进的分步投影技术,曝光光源为KrF准分子激光(248nm),这一波长的光源能实现更精细的图案转移。其配备的高分辨率投影光学系统,数值孔径达0.63,分辨率可低至0.18μm,能精准刻画晶圆表面的细微电路图案。该光学系统经过特殊的像差校正处理,确保图案边缘清晰、线条均匀,减少了因光学畸变导致的图形偏差。同时,设备搭载的高精度对准系统,结合先进的图像识别技术与精密机械控制,晶圆与掩模版的对准精度控制在0.04μm以内,为多层光刻的精准叠加提供了坚实保障,让各层电路连接更可靠。
NIKONNSRS204B分步投影光刻机
NIKONNSRS204B分步投影光刻机
性能优势方面,NSRS204B效率与稳定性兼具。针对8英寸晶圆,每小时可处理超过100片(基于标准工艺),通过优化的晶圆传输路径和快速曝光流程,大幅缩短了单片光刻时间,提升了生产吞吐量,满足大规模量产需求。工艺重复性表现优异,多次光刻同一批次晶圆,图案尺寸偏差极小,误差控制在±2%以内,有效提高了产品良率。此外,设备兼容性强,能适配多种光刻胶和不同材料晶圆,包括硅晶圆和化合物半导体晶圆,为多样化生产提供便利。