二手NIKON Stepper 2205 i14 E2光刻机

NIKONStepper2205i14E2光刻机搭载先进的ArF准分子激光光源（波长193nm），配合高精度投影光学系统，能够实现90nm及以上制程的光刻需求✨。其出色的分辨率与套刻精度，让复杂的电路图案能够精准“复刻”到晶圆之上，套刻误差可控制在±35nm以内，有效保障芯片制造的良品率。

设备的曝光效率也十分惊人！采用步进式扫描曝光技术，每小时可处理晶圆达120片，极大提升了产线的光刻产能。同时，它还具备优秀的焦深控制能力，即使面对不同表面形貌的晶圆，也能确保曝光的均匀性和稳定性。

操作层面，NIKONStepper2205i14E2光刻机配备智能化的人机交互界面，工程师可轻松设置曝光剂量、扫描速度等关键参数，并支持多组工艺配方的存储与调用，方便快速切换不同光刻工艺。此外，设备内置的自动对焦和对准系统，能够快速精准地定位晶圆，减少人工干预，提升操作效率。

在适用场景上，这款光刻机覆盖范围广泛。无论是消费电子芯片、汽车电子芯片，还是传感器芯片的制造，它都能大展身手。从晶圆制造环节的电路图形转移，到芯片封装阶段的微小结构光刻，NIKONStepper2205i14E2都能凭借稳定且优异的性能，成为半导体企业降本增效的得力助手！

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