二手NIKON NSR SF130光刻机

在二手半导体设备领域，龙玺精密所经手的NIKONNSRSF130光刻机，可谓是光刻工艺中的“经典担当”，凭借其卓越的性能与稳定的表现，持续在半导体制造领域散发着独特光芒

一、设备核心定位

NIKONNSRSF130属于步进式光刻机，在半导体芯片制造流程里，光刻工序至关重要，而它就是其中的关键设备。其主要职责是把掩模版上极为复杂的电路图案，以超高精度转移到晶圆表面，是芯片从设计蓝图迈向实际产品的关键一步，为芯片实现各项功能奠定基础。

二、核心技术参数与功能

光源与分辨率：该设备采用i-line光源，波长为365nm，数值孔径（）达到0.62。基于此，它能够实现0.28μm的高分辨率，这一分辨率足以满足多种成熟制程芯片的光刻需求，在晶圆那微小的世界里，精准勾勒出精细复杂的电路图案，如同微观世界里的“绘图大师”

晶圆适配：它对4英寸-12英寸的晶圆都能完美适配，无论是逻辑芯片、存储芯片，还是化合物半导体、MEMS（微机电系统）器件制造所需要的晶圆，它都能“游刃有余”地进行处理，应用场景极为广泛，适配不同规模和类型的半导体生产需求

对准与曝光：NSRSF130配备了先进的激光扫描对准（LSA）技术，其对准精度可达±40nm，如此高的对准精度确保了图案在转移过程中的准确性，几乎不会出现偏差；曝光视场为25mm×33mm，曝光倍率为4:1，在保证光刻质量的同时，还兼顾了生产效率，助力产线高效运转，实现稳定且高效的光刻作业

光学系统：搭载了高品质的光学镜头组，该镜头组能够有效降低像差，从而保证投影图像清晰、均匀，让光刻图案可以完整、精准地“复制”到晶圆上，为芯片制造的高精度要求提供了坚实保障，确保每一个光刻图案都能完美呈现在晶圆之上。

三、应用场景与设备价值

NIKONNSRSF130光刻机在28nm及以上成熟制程芯片的生产制造中应用广泛，在集成电路、传感器芯片等产品的制造过程中发挥着不可替代的重要作用。作为二手设备，它以稳定可靠的性能和相对较低的成本投入，成为众多中小晶圆厂、科研机构开展芯片研发与生产的优质选择。其存在不仅延续了设备的使用价值，还为半导体产业的发展提供了更多可能，推动着技术不断创新与产业持续升级

NIKONNSRSF130光刻机以自身的实力在半导体领域站稳脚跟！若你对这款设备感兴趣，或者想了解更多半导体设备相关信息，欢迎随时与我们交流探讨～NIKON光刻机#芯片制造工艺