单片机的天花板之一光刻机

很多同学说单片机这个行业天花板有些低，在选择专业的时候比较犹豫要不要选这个专业，其实每个行业都会有很高的天花板，今天我们就来说一下单片机的天花板之一的光刻机。原本光刻机只出现在业内人士的视线中，随着“川建国”的指点江山，让我们更加清楚地知道了光刻机的发展刻不容缓，光刻机才出现在了大众视野中。

我们都知道芯片这么小，这么精密，那么芯片是如何生产出来的呢？用刀刻？用水冲？自然不行，因为芯片远比这小得多，动不动就是nm的，这些最小也就是μm级别，那么到底是什么刻刀能做到这么精细。所以就想到了，用光线在芯片上刻，就是光刻机。

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻的意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。形象的来说光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的图案投影到芯片上。

一、接触式曝光（ContactPrinting）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。

二、接近式曝光（ProximityPrinting）:掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。

三、投影式曝光（ProjectionPrinting）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。

四、高精度双面：主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

五、高精度单面：针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机,中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

目前国内用于生产芯片的光刻机是前道光刻68和后道封装28，国产28nm光刻机看消息是今年或者明年才能出，至于比28还要先进的可能还要一段时间，先进的光刻机我们目前还处于蓝海阶段，如果有大牛能研发出来肯定是名利双收。