出二手半导体设备NIKON NSR 2205 I11C光刻机
在二手半导体设备的流转中，龙玺精密涉及的NIKONNSR2205I11C光刻机，是光刻领域里颇具实力的“老将”，凭借硬核技术参数和稳定表现，持续为半导体制造添砖加瓦一、设备核心定位NIKONNSR22......
在二手半导体设备的流转中，龙玺精密涉及的NIKONNSR2205I11C光刻机，是光刻领域里颇具实力的“老将”，凭借硬核技术参数和稳定表现，持续为半导体制造添砖加瓦
一、设备核心定位NIKONNSR2205I11C属于步进式光刻机，在半导体芯片制造的光刻工序中，负责将掩模版上的电路图案精准转移到晶圆表面，是实现芯片从设计蓝图到微观电路实体化的关键设备，为芯片功能实现筑牢基础。
二、核心技术参数与功能光源与分辨率：采用i-line光源，波长365nm，数值孔径（）达0.52，可实现0.35μm的分辨率，能够满足多种成熟制程芯片的光刻需求，在晶圆上“绘制”出精细的电路图案️
晶圆适配：支持4英寸-12英寸晶圆，无论是化合物半导体、MEMS（微机电系统）器件，还是逻辑芯片、存储芯片制造所需的晶圆，它都能游刃有余地处理，应用场景十分广泛
对准与曝光：配备先进的激光扫描对准（LSA）系统，对准精度可达±60nm，确保图案转移的精准度；曝光视场为25mm×33mm，曝光倍率4:1，在保证光刻质量的同时，兼顾生产效率，助力产线高效运转
光学系统：高品质光学镜头组有效减少像差，保证投影图像清晰、均匀，让光刻图案准确无误地复制到晶圆表面，为芯片制造的高精度要求提供保障。
三、应用场景与设备价值NIKONNSR2205I11C光刻机适用于280nm及以上成熟制程芯片生产，在集成电路、传感器芯片等产品制造过程中发挥重要作用。作为二手设备，它以可靠的性能和相对较低的成本，成为中小晶圆厂、科研机构开展芯片研发与生产的优选，持续在半导体产业中创造价值，推动技术创新与产业发展
NIKONNSR2205I11C光刻机用实力诠释经典！对这款设备感兴趣，或想了解更多半导体设备信息，欢迎随时交流～芯片制造工艺
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